COMPONENTS
  • Sputtering Components Inc.
  • - envis-IONTM DMPTS
  • - envis-IONTM DMCVD
  • Gencoa
  • - Linear Ion Source
  • - IMC Circular Ion Source
  • - Pulsed Valve Cracker Effusion Cell
  • Platar
  • - Gridded Ion Source
  • UHV Components
Ion Source & PECVD Source

Gencoa

IMC Circular Ion
Source


특징 Linear Ion Source

   - 최적화된 자기장과 beam 조절 가능
   - 작업시 오염방지를 위한 고수명 탄소 anode 및 cathode 적용
   - 간접 냉각 기능 - 정비시 냉각수 제거 작업 불필요
   - IM3000 power supply를 통한 간편한 자동 가스 조절 기능 적용
   - 다른 2가지 gas input 조절 가능
IMC75 Circular Ion source

   - Reactive 및 non-reactive 환경에서 긴 작업 주기를 가짐
   - 오염 최소화 - 탄소 anode 및 cathode 적용
   - ITO & Silver 증착시 결정화 조절 기능
   - 증착전 기판 etching 기능
   - Ion beam 증착에 적용 가능
   - PECVD 및 DLC 증착에 적용 가능

SPECIFICATIONS

Model specification
IMC75 Internal mount 25.4mm OD 300mm long shaft
Operating pressure 10-3 x 10-4 mbar
Cable RG393
Water tube 1/4“ PFA
Water requirements 1 litre/min per kW, 3 bar max
No deionized water required
T-S distance >60 mm (to avoid source coating)
Gas injection 1/8“ OD stainless steel tube Swagelok fitting
flow range for MFC selection 10 sccm