COMPONENTS
  • UHV Components
  • - Speedflo
Magnetron Cathodes

Gencoa

Reactive Gas Control
(Speedflo)


Speedflo sputter율 증가 기능

   - Speedflo는 반응성 sputtering의 증착률과 제어를 위한 매우 효과적인 장비임.
   - Speedflo는 증착률을 증가시킬 수 있으며, 일정한 gas를 주입 가능함.
균일도 증가

   - Speedflo는 8개의 sensor값을 받을 수 있으며, 8개의 gas MFC를 조절할 수 있음.
공정 관찰 가능

   - Speedflo는 공정과정에서 사용되는 다양한 sensor로 부터 input값을 받아들여 신속한 gas 조절을 할수 있게 도와줌.
   - Speedflo의 PEM sensor는 금속 및 반응성 공정시 다양한 세기의 플라즈마를 관찰할 수 있음.
   - Speedflo의 우수한 제어 기술로 Target voltage 또는 산소 분압을 통한 제어가 가능함.
Hardware
Options
Speedflo

   - 8 sensor inputs and 8 MFC actuator outputs.
Speedflo Mini

   - 2 sensor inputs and 3 MFC actuator outputs.
Improved uniformity

   - Speedflo can receive up to 8 sensor inputs and simultaneously control 8 gas MFCs.
Plasma Emission Monitoring (P.E.M)

   - 플라즈마로 부터 발광되는 광학적 발산 스펙트럼 정보를 측정하여 gas 량을 조절함.
Speedflo
sensor
options
P.E.M CCD

   - CCD-type의 광검출기를 통해 플라즈마 빛을 확인
      P.E.M CCD는 공정과정을 그래프화 하여 제공함.
Remote P.E.M (Penning P.E.M)

   - Penning PEM 센서는 cathode의 플라즈마를 간접적으로 제어 할 수 있음.
   - P.E.M 센서의 오염으로 설치가 불가능 할때 유용하게 사용 가능
Lambda

   - 산소 제어용 probe로 진공 내부의 산소를 직접적으로 제어
Target voltage

   - Power supply로 부터 나오는 target voltage output을 통해 편리하게 가스량을 조절